中微公司：第2000个CCP刻蚀设备反应台付运
今天，中威公司宣布，其电容耦合高能等离子体刻蚀设备的第2000个反应器成功交付给国内某半导体厂商。
众美公司指出，该批次出货的CCP蚀刻设备反应平台包括Primo AD—RIE和Primo HD—RIE系列产品Primo AD—RIE—e是第二代介质刻蚀产品Primo AD—RIE的子产品，将应用于5 nm及以下前段和中段掩膜层刻蚀的开发和量产
交付的Primo HD—RIE批次具有六个单反应腔系统，旨在为中高纵横比蚀刻提供全面的解决方案据中微介绍，Primo HD—RIE在刻蚀3D—NAND和DRAM的高深宽比沟槽和深孔方面表现优异，在一些关键工艺上已经量产
据本站介绍，数据显示，2022年上半年，中威公司新签金额同比增长61.83%至30.57亿元，营业收入同比增长47.30%至19.72亿元，扣非归母净利润同比增长615.26%至4.41亿元，其中蚀刻设备收入12.99亿元，同比增长
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[责任编辑：竹隐]
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